Humidificador de hongos de efecto invernadero

Humidificador de hongos de efecto invernadero

Control de sala limpia para control de humedad.

La importancia del control de la humedad y la humedad relativa para la sala limpia: el control de la humedad es una condición importante para la producción de la sala limpia. La humedad relativa es una condición de control ambiental común en el funcionamiento de una sala limpia y una sala limpia.

Los valores típicos de la humedad relativa en salas limpias de semiconductores y salas limpias se controlan en el rango de aproximadamente 30 a 50%, lo que permite tolerancias dentro de un rango estrecho de ± 1%, como la litografía o en el procesamiento ultravioleta extremo (DUV). Más pequeño y se puede relajar hasta dentro del ± 5% del resto.

En los últimos años, el proceso de tratamiento del aire se ha mantenido en estos rangos prescritos. La humedad relativa tiene una serie de factores que pueden contribuir al rendimiento general de la sala limpia, incluidos:

1, crecimiento bacteriano; 2, el personal se siente cómodo rango de temperatura ambiente; 3, carga estática; 4, corrosión de metales; 5, condensación de vapor de agua; 6, degradación litográfica; 7, absorción de agua.

Las bacterias y otros mohos, virus, hongos y áfidos biológicamente contaminados pueden multiplicarse activamente en ambientes con humedad relativa superior al 60%. Algo de flora puede crecer cuando la humedad relativa supera el 30%. Cuando la humedad relativa se encuentra entre el 40% y el 60%, los efectos de las bacterias y las infecciones respiratorias se pueden minimizar. La humedad relativa en el rango del 40% al 60% también es un rango modesto en el que los humanos se sienten cómodos. El exceso de humedad puede hacer que las personas se sientan deprimidas, mientras que la humedad por debajo del 30% puede hacer que las personas se sientan secas, la ruptura de la piel, el malestar respiratorio y el malestar emocional.

La alta humedad en realidad reduce la acumulación de carga estática en la sala limpia y las superficies de la sala limpia, un resultado que todos esperan. Una humedad más baja es más adecuada para la acumulación de carga y una fuente de descarga electrostática potencialmente dañina. Cuando la humedad relativa supera el 50%, la carga estática comienza a disiparse rápidamente, pero cuando la humedad relativa es inferior al 30%, pueden persistir durante mucho tiempo en el aislante o en la superficie sin conexión a tierra.

La humedad relativa entre 35% y 40% puede ser un compromiso satisfactorio. Los talleres y salas limpias libres de polvo de semiconductores generalmente usan controles adicionales para limitar la acumulación de carga estática. La velocidad de muchas reacciones químicas, incluido el proceso de corrosión, aumentará a medida que aumenta la humedad relativa. Todas las superficies expuestas a la sala limpia y el aire que rodea la sala limpia se cubren rápidamente con al menos una monocapa de agua. Cuando estas superficies están compuestas por un revestimiento metálico delgado que puede reaccionar con el agua, la humedad alta puede acelerar la reacción. Afortunadamente, algunos metales, como el aluminio, pueden formar un óxido protector con el agua y evitar nuevas reacciones de oxidación. En otro caso, por ejemplo, el óxido de cobre, no es protector, por lo que es alto. En un ambiente húmedo, la superficie de cobre es más susceptible a la corrosión.

Se puede observar que el taller sin polvo tiene requisitos estrictos o incluso estrictos sobre la humedad, y el deshumidificador resuelve bien este problema en el control de la humedad. El deshumidificador puede resolver fundamentalmente los estrictos requisitos de temperatura y humedad en el taller sin polvo.

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